|
Ürün ayrıntıları:
|
Ürün adı: | 2 inç Bağımsız U-GaN/SI-GaN Substratlar | Boyutlar: | 50,8 ± 1 mm |
---|---|---|---|
Kalınlık: | 350 ± 25μm | Oryantasyon Düz: | (1-100) ± 0,5˚, 16 ± 1 mm |
İkincil oryantasyon düz: | (11-20) ± 3˚, 8 ± 1mm | Ga yüz yüzey pürüzlülüğü: | < 0,2 nm (parlatılmış) veya < 0,3 nm (cilalı ve epitaksi için yüzey işlemi) |
Vurgulamak: | U GaN Yüzeyler,GaN 2 İnç Gofret,SI GaN Yüzeyler 50.8mm |
2 inç Bağımsız U-GaN/SI-GaN Yüzeyler 350 ± 25 μm 50,8 ± 1 mm
2 inç C-yüz Katkısız n-tipi serbest duran GaN tek kristal substrat Direnç < 0,1 Ω·cm Güç cihazı/lazer levha
genel bakış
Silikon üzerindeki GaN Şablonu, hidrit buhar fazı epitaksi (HVPE) tabanlı bir yöntemle yapılır.HVPE işlemi sırasında, HCI erimiş Ga ile reaksiyona girerek GaCl oluşturur ve bu da NH3 ile reaksiyona girerek GaN oluşturur.Silikon üzerindeki GaN şablonu, GaN tek kristal substratı değiştirmenin uygun maliyetli bir yoludur.
2 inç Bağımsız U-GaN/SI-GaN Substratlar | |||||||
Mükemmel seviye (S) |
Üretim seviyesi(A) |
Araştırma seviye (B) |
Kukla seviye (C) |
Not: (1) Kullanılabilir alan: kenar ve makro kusurları hariç tutma (2) 3 nokta: konumların yanlış kesim açıları (2, 4, 5) 0,35 ± 0,15'tirÖ |
|||
S-1 | S-2 | A-1 | A-2 | ||||
boyutlar | 50,8 ± 1 mm | ||||||
Kalınlık | 350 ± 25 mikron | ||||||
Oryantasyon düz | (1-100) ± 0,5Ö, 16 ± 1 mm | ||||||
İkincil oryantasyon düz | (11-20) ± 3Ö, 8 ± 1 mm | ||||||
Özdirenç (300K) |
N tipi için < 0,5 Ω·cm (Katkısız; GaN-FS-CU-C50) veya > 1 x 106Yarı yalıtım için Ω·cm (Fe katkılı; GaN-FS-C-SI-C50) |
||||||
TTV | ≤ 15 mikron | ||||||
YAY | ≤ 20 μm ≤ 40 μm | ||||||
Ga yüz yüzey pürüzlülüğü |
< 0,2 nm (cilalı) veya < 0,3 nm (cilalı ve epitaksi için yüzey işlemi) |
||||||
N yüz yüzey pürüzlülüğü |
0,5 ~1,5 mikron seçenek: 1~3 nm (ince zemin);< 0,2 nm (cilalı) |
||||||
paket | Temiz bir odada tek gofret kabında paketlenmiştir | ||||||
Kullanılabilir alan | > %90 | >%80 | >%70 | ||||
Dislokasyon yoğunluğu | <9,9x105santimetre-2 | <3x106santimetre-2 | <9,9x105santimetre-2 | <3x106santimetre-2 | <3x106santimetre-2 | ||
Oryantasyon: C düzlemi (0001) M eksenine doğru açı dışı |
0,35 ± 0,15Ö (3 puan) |
0,35 ± 0,15Ö (3 puan) |
0,35 ± 0,15Ö (3 puan) |
||||
Makro kusur yoğunluğu (delik) | 0 cm-2 | < 0,3 cm-2 | < 1cm-2 | ||||
Makro kusurlarının maksimum boyutu | < 700 mikron | < 2000 mikron | < 4000 mikron |
Hakkımızda
Elektronik, optik, opto elektronik ve diğer birçok alanda yaygın olarak kullanılan gofretler, alt tabakalar ve özelleştirilmiş optik cam parçalarına çeşitli malzemeleri işleme konusunda uzmanız.Ayrıca yurt içi ve yurt dışında birçok üniversite, araştırma kurumu ve şirket ile yakın işbirliği içinde çalışmakta, Ar-Ge projeleri için özelleştirilmiş ürün ve hizmetler sunmaktayız.İyi itibarımızla tüm müşterilerimizle iyi bir işbirliği ilişkisi sürdürmek vizyonumuzdur.
SSS
S: Ticaret şirketi veya üretici misiniz?
Biz fabrikayız.
S: Teslim süreniz ne kadar?
Malların stokta olması genellikle 3-5 gündür.
veya mal stokta değilse 7-10 gündür, miktarına göre.
S: numune sağlıyor musunuz?ücretsiz mi yoksa ekstra mı?
Evet, numuneyi ücretsiz olarak sunabiliriz ancak navlun bedelini ödemeyiz.
S: ödeme koşullarınız nedir?
Ödeme <=5000USD, %100 peşin.
Paymen >=5000USD, %80 T/T peşin, sevkiyat öncesi bakiye.
İlgili kişi: Xiwen Bai (Ciel)
Tel: +8613372109561